莫尔条纹有助于发现新型绝缘相

具有过量电子的材料通常是导体。然而，由加州大学河滨分校的物理学家领导的一项研究发现，莫尔条纹(干扰纹通常会在一个具有重复性图形的物体放置在另一个具有类似图形的物体上时出现)，从而抑制电导率。在实验室中，研究人员将单层二硫化钨(WS 2)覆盖在单层二硒化钨(WSe 2)上，并使两层相互对齐以生成大规模的莫尔图案。WS 2和WSe 2层中的原子都排列成二维蜂窝状晶格，其周期性或重复间隔小于1纳米。但是，当两个晶格以0或60度对齐时，复合材料会产生莫尔条纹，其周期更大，约为8纳米。这种二维系统的电导率取决于在莫